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2005年
 
 

年末年始休業のご案内

掲載日:2005年12年26日

年末年始にあたり、誠に勝手ながら下記の期間休業させて頂きます。
お客様およびお取引先様にはご迷惑をお掛けいたしますが、ご了承のほどお願い申し上げます。

年末年始休業期間:2005年12月29日(木)〜2006年1月4日(水)


 

セミコン・ジャパン2005 弊社ブースへのご来場ありがとうございました。

掲載日:2005年12年16日
2005年12月7〜9日に幕張メッセにてセミコン・ジャパン2005が開催されました。弊社では極低膨張ガラスセラミックス(CLEARCERAM®-Z)を中心に高均質性光学ガラス、低Tg光学ガラス(L-LAH83)などの展示を行いました。多くの方々にご来場いただき誠にありがとうございました。おかげさまで好評のうちに会期終了を迎えることができました。                    今後とも皆様のご期待にそえますよう努めてまいりますので宜しくお願い申し上げます。   セミコン・ジャパン2005 弊社ブース

 

CIOE2005(第7回中国国際光電)が開催されました。

掲載日:2005年9月21日
2005年9月6〜9日に中国の深圳にてCIOE2005が開催されました。弊社展示ブースでは低Tg光学ガラス(L-LAH83)を中心とした光製品や極低膨張ガラス(CLEARCERAM®-Z)などのエレクトロニクス製品を展示し、4日間で1,000名を超える多くの方々の好評を博しました。   CIOE2005(第7回中国国際光電) 弊社ブース
弊社ブース
 
CIOE2005(第7回中国国際光電)の様子
展示会の様子
  Φ1,500mm CLEARCERAM®-Zガラスブランク(開発品)
Φ1,500mm CLEARCERAM®-Z
ガラスブランク(開発品)
 

業界トップの高透過率を実現した環境対策高屈折率高分散光学ガラスS-NPH53(新製品)のご案内

掲載日:2005年9月5日
 

高屈折率高分散の環境対策光学ガラスS-NPH53を開発しました。高屈折率高分散の環境対策光学ガラスとしては業界トップの透過率を実現しております。従来、高屈折率高分散で、高透過を必要とする光学系には鉛ガラスが用いられていましたが、S-NPH53は代替材として置き換えが可能となります。

S-NPH53は、従来の鉛ガラスと比較して低比重、化学的耐久性向上、機械的強度増大、耐摩耗性向上などの特徴があります。

S-NPH53は、大径品の供給が可能ですので、幅広い用途にご使用いただけます。

 > 詳しくは製品情報をご覧ください。

 

ガラスモールド用 硝材で世界最高の高屈折率低分散特性を実現したL-LAH83(新製品)のご案内

掲載日:2005年9月5日
 

非球面ガラスモールド用環境対策光学ガラスとしては世界最高の高屈折率低分散を誇る、環境対策光学ガラス L-LAH83を開発しました。

デジタルカメラ等の光学系は、コンパクト化のために、高屈折率低分散な光学ガラスを用いた非球面レンズが採用されています。従来の高屈折率低分散な光学ガラスはガラス転移点が高く、モールドプレスが困難でしたが、L-LAH83は、高屈折率低分散でありながら、モールドプレス加工が可能な領域までガラス転移点を下げることを実現させています。

カメラ等の撮像系レンズ、光通信用光学レンズやその他各種光学素子としてご使用いただけます。

 > 詳しくは製品情報をご覧ください。

 

セミコンジャパン 2005 へ出展

掲載日:2005年7月1日  更新日:2005年12月15日
 

(株)オハラはセミコン・ジャパン2005(SEMICON Japan 2005)へ出展いたしました。
会期:2005年12月7日〜2005年12月9日
会場:幕張メッセ

 

SPIE Photonics & Optics  2005 へ出展

掲載日:2005年7月11日  更新日:2005年8月15日
 

Ohara Corporation はSPIE Photonics & Optics 2005へ出展いたしました。
会期:2005年8月2日〜2005年8月4日
会場:アメリカ合衆国 カリフォルニア州 サンディエゴ,サンディエゴ コンベンション センター

 

CIOE2005 第7回中国国際光電展示会へ出展

掲載日:2005年6月1日  更新日:2005年9月16日
 

(株)オハラはCIOE2005第7回中国国際光電展示会へ出展いたしました。
会期:2005年9月6日〜2005年9月9日
会場:中華人民共和国 広東省 深圳深圳コンベンション・エキシビションセンター

 

Photnics West 2005へ出展

掲載日:2005年1月19日  更新日:2005年3月1日
 

Ohara Corporation はPhotonics West 2005へ出展いたしました。
会期:2005年1月25日〜2005年1月27日
会場:アメリカ・カリフォルニア州・サンノゼ・サンノゼコンベンションセンター

 

Optifab 2005へ出展

掲載日:2005年1月19日  更新日:2005年7月1日
 

Ohara Corporation はOptifab 2005へ出展いたしました。
会期:2005年5月3日〜2005年5月5日
会場:アメリカ・ニューヨーク州・ロチェスター・ロチェスターリバーサイドコンベンションセンター

 

Photonics North 2005へ出展

掲載日:2005年1月19日  更新日:2005年9月16日
 

Ohara Corporation は Photonics North 2005へ出展いたしました。
会期:2005年9月13日〜2005年9月14日
会場:カナダ・オンタリオ州・トロント・トロントコングレスセンター

 
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